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簡要描述:基于白光干涉顯微測量原理,將非相干光干涉與大視場顯微成像技術(shù)相結(jié)合,實(shí)現(xiàn)對微觀三維形貌的高精度重構(gòu);滿足從超光滑拋光表面到機(jī)加工粗糙表面的全場景表面質(zhì)量測量需求
產(chǎn)品型號:
廠商性質(zhì):代理商
產(chǎn)品資料:
更新時間:2026-07-28
訪 問 量: 15產(chǎn)品分類
Product Category詳細(xì)介紹
基于白光干涉顯微測量原理,將非相干光干涉與大視場顯微成像技術(shù)相結(jié)合,實(shí)現(xiàn)對微觀三維形貌的高精度重構(gòu);滿足從超光滑拋光表面到機(jī)加工粗糙表面的全場景表面質(zhì)量測量需求
高精度:縱向測量分辨率可達(dá)到亞納米級別
高深寬比:更適合深槽窄槽的尺寸分析
配備定制樣品平臺,實(shí)現(xiàn)多類型樣品尺寸兼容
宏微觀測量兼容:配備光譜共焦,實(shí)現(xiàn)大范圍三維形貌掃描
線粗糙度
面粗糙度
通孔直徑
3D形貌
深度
線寬
超景深融合
臺階高度
2D尺寸


刻蝕與拋光工藝:刻蝕槽形貌、研磨/拋光表面質(zhì)量評估
通孔結(jié)構(gòu):TSV(硅通孔)/TGV(玻璃通孔)的深度、形貌
切割工藝:品圓切割道形貌、崩邊及劃痕分析
微納加工:MEMS結(jié)構(gòu)、微光學(xué)元件、微流體通道等三維輪廓表征
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